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FFU化学过滤器

FFU化学过滤器是专为风机过滤单元(FFU)配套研发的新型空气净化设备,旨在高效处理空气中的分子级气态污染物(AMC)。该设备通常将改性活性炭与高效滤网相结合,通过浸渍、吸附及化学反应,精准去除洁净环境中的酸性、碱性及有机挥发物。其核心优势在于重量轻、阻力低且吸附速度快,在0.36-0.45m/s的面风速下即可实现高效净化,且无需增加额外能耗。FFU化学过滤器广泛应用于半导体制造、精密化工及实验室等场景,是保障高端工艺免受化学污染的关键屏障。
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产品详情

产品简介

FFU 化学过滤器专为吊顶 FFU 风机过滤单元开发的薄型板式气相过滤模块,参照 SEMI F21 AMC 分子污染控制规范,安装于 FFU 内部,位置:风机段与 HEPA/ULPA 之间,或 HEPA 下游出风面。普通 HEPA 只能过滤固体颗粒,无法去除气态分子污染物;FFU 化学过滤器通过物理吸附 + 化学中和,去除洁净室内循环空气中 AMC 四类分子污染物(酸性 MA、碱性 MB、可凝有机物 MC、掺杂物质 MD),解决光刻胶 T 型顶缺陷、晶圆腐蚀、镜头结雾、产品污染问题,多用于半导体、面板、高端锂电、特种 GMP 洁净室局部分子污染控制。

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区别:箱式化学过滤器一般放在 MAU/RAU 新风空调箱;FFU 化学过滤器是吊顶 FFU 内部薄模块,处理室内循环风,作为点位式分子污染防护。

结构与材质

  1. 外框:铝合金框(主流,低释气)、镀锌钢板、304 不锈钢;适配标准 FFU 内尺寸:575×575、1175×575,厚度 35‑70mm 薄型设计,不改动 FFU 吊顶龙骨框架。
  2. 滤料形式:蜂窝夹碳滤料 / 褶式浸渍化学滤料;低析出、低发尘,不释放挥发性有机物,避免二次 AMC 污染。
  3. 过滤介质(按需选型)
    • 活性炭介质(MC):吸附 VOC、有机溶剂、可凝性有机物、异味;
    • 酸性浸渍介质(MA):去除 HF、SO₂、NOₓ、H₂S 等酸性腐蚀性气体;
    • 碱性浸渍介质(MB):去除氨气、胺类、NMP 等碱性污染物;
    • 混合床复合介质:同时处理酸 + 碱 + VOC 多种混合气体;
  4. 护网:双面耐腐蚀金属防护网,防止吸附介质颗粒散落泄漏进入洁净区;
  5. 密封:低释气 EPT/EVA 密封垫片,整机压紧密封,杜绝气体旁路短路。

重要:FFU 化学过滤器不可水洗、不可烘烤再生,吸附饱和直接整体更换

产品特点

  • FFU 原位点位净化:直接装入现有标准 FFU,无需改造吊顶与空调系统,对关键工艺区域做局部 AMC 防护。
  • 低阻力薄型设计:厚度薄,对 FFU 风机风压、层流风速影响小,保障 0.36‑0.45m/s 标准层流风速要求。
  • 低释气低发尘:洁净室级滤料与密封件,自身不挥发污染物,不会污染晶圆、光刻、光学器件。
  • 靶向化学过滤:根据现场污染物组分定制介质配方,针对酸、碱、VOC、臭氧做专一去除。
  • 拆装维护便捷:跟随 FFU 高效过滤器同步拆装,模块化整体替换。
  • 适配标准规格:兼容市面主流 575、1175 尺寸 FFU,支持非标定制厚度与尺寸。

⚠️注意:FFU 化学过滤器主要处理室内循环风的分子污染;新风端 MAU 仍建议配置箱式化学过滤器做第一道防线,减轻 FFU 化学过滤器负荷,延长寿命。

技术参数

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更换周期参考:低 AMC 负荷 8‑24 个月;工艺区域高污染负荷 3‑8 个月,以现场 AMC 检测数据为准。

应用场景

  1. 半导体、面板光刻区、蚀刻区 FFU:控制 MA/MB/MC 分子污染,避免光刻胶缺陷、晶圆腐蚀、镜头起雾,符合 SEMI F21 标准。
  2. 新能源锂电车间关键工序:去除电解液挥发有机物、碱性胺类物质。
  3. 生物医药高等级 GMP 车间(EU GMP Annex1):局部点位去除溶剂挥发、酸碱气态污染物。
  4. 理化实验室、动物房局部层流单元:控制氨气、试剂挥发气体。
  5. 精密光学、航天元器件制造洁净棚 FFU:保护光学组件不受气态腐蚀。

安装与维护说明

  1. 气流方向确认:滤料介质层朝向迎风气流;垫片完整,四周压紧,严防旁路漏气;停机状态下拆装。
  2. 系统层级建议:新风 MAU 箱式化学过滤 → 洁净室循环 FFU+FFU 内置化学过滤器,两级气相防护,减轻 FFU 化学过滤器负担。
  3. 监测手段:压差表监测阻力,必须配合现场 AMC 气体检测,压差不能作为饱和唯一依据;气体检出超标即必须更换。
  4. 严禁水洗、烘烤、暴晒再生;吸附饱和整体更换。
  5. 废弃处置:吸附有毒有害介质的过滤器按当地危废规范处置,不可当作普通固废丢弃。
  6. 库存产品需密封包装存放,避免提前接触空气造成介质提前吸附失效。
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